Usenko A. Y. Silicon-on-insulator technology for microelectromechanical applications = Застосування технології "кремній на ізоляторі" при виготовленні мікроелектромеханічних систем / A. Y. Usenko, W. N. Carr // Фізика напівпровідників, квантова електроніка та оптоелектроніка. - 1999. - 2, № 1. - С. 93-97. - Библиогр.: 19 назв. - англ.Розглянуто різні типи мікроелектромеханічних (МЕМ) приладів, що можуть бути створені на основі структур "кремній на ізоляторі" (КНI). Підсумовано переваги використання технології КНI. Проаналізовано проблеми інтеграції структур, побудованих за технологіями кремній-метал-оксид-напівпровідник та КНI з метою створення сенсорів з логічними пристроями. Наведено приклади успішного використання структур КНI для виготовлення сучасних МЕМ приладів, а також дано оцінку майбутніх перспектив їх застосування. Ключ. слова: мiкромеханiчнi системи, кремнiй-на-iзоляторi, сенсори, огляд Індекс рубрикатора НБУВ: Ж605.4
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|