Показано, что напряжение отсечки ионно-имплантированного полевого транзистора с барьером Шоттки (ПТШ) на GaAs с хорошей точностью соответствует напряжению, при котором на вольт-фарадной характеристике появляется точка перегиба. Предложен метод прогнозирования напряжения отсечки ионно-имплантированных ПТШ с помощью вольт-фарадных измерений до нанесения контактов.

It is shown that the threshold voltage of a GaAs ion-implanted metal-semiconductor field-effect transistor corresponds with a good accuracy to the voltage at which an inflection point appears in the capacitance-voltage characteristic. A method for predicting the threshold voltage of ion-implanted field-effect transistors using capacitance-voltage measurements prior to contact formation is proposed.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"