Гончарук В. В. Роль режимов УФ-облучения в процессе <$E bold roman {O sub 3 "/" УФ}>-обработки растворов СПАВ / В. В. Гончарук, В. Ф. Вакуленко, А. Н. Сова, Ю. О. Швадчина // Химия и технология воды. - 2002. - 24, № 4. - С. 299-315. - Библиогр.: 30 назв. - рус.Вивчено дію озону й УФ-випромінювання окремо і за різних режимів одночасного їх використання на водні розчини алкілбензолсульфонату натрію (АБС) - типової аніонної поверхнево-активної речовини, що часто зустрічається в природних водах. Показано, що швидкість розкладу АБС у процесі <$E roman {O sub 3 "/" УФ}>-обробки в 2 - 9 разів вища, ніж за озонування, та в 5 - 10 разів у порівнянні з фотолізом. Ефективність <$E roman {O sub 3 "/" УФ}>-обробки зростає зі збільшенням концентрації <$E roman O sub 3> у газовій фазі й інтенсивності УФ-випромінювання. З трьох вивчених режимів УФ-опромінення (безперервного, періодичного й імпульсного) найбільшу швидкість деструкції дослідженої сполуки досягнуто під час безперервного УФ-опромінення. Присутність бікарбонат-іонів у модельних розчинах АБС прискорює його розклад озоном, але помітно знижує швидкість деструкції за <$E roman {O sub 3 "/" УФ}>-обробки. Індекс рубрикатора НБУВ: Н761.104.32
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж14165 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|