РЕФЕРАТИВНА БАЗА ДАНИХ "УКРАЇНІКА НАУКОВА"
Abstract database «Ukrainica Scientific»


Бази даних


Реферативна база даних - результати пошуку


Вид пошуку
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000144421<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 1

Bystrenko T.  
To the problem of influence of charging processes on the grain screening in plasmas = До проблеми впливу процесів зарядки на екранування макрочастинок в плазмі / T. Bystrenko, A. Zagorodny // Укр. фіз. журн. - 2002. - 47, № 4. - С. 341-345. - Библиогр.: 16 назв. - англ.

У межах лінеарізованої моделі беззіштовхувальної плазми досліджено вплив процесів зарядки на ефективне екрановане поле навколо зарядженої макрочастинки. Показано, що в широкому діапазоні параметрів плазми процеси зарядки суттєво не змінюють величину ефективного екранованого поля, передбачену рівноважною лінійною теорією екранування. Істотні відхилення від лінійної теорії екранування можна очікувати у випадку великих розмірів мікрочастинок - порядку довжини Дебая. Розглянуто асимптотичну поведінку ефективних потенціалів.


Індекс рубрикатора НБУВ: В333.263

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ 
  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
 
Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського
Відділ наукового формування національних реферативних ресурсів
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського