Книжкові видання та компакт-диски Журнали та продовжувані видання Автореферати дисертацій Реферативна база даних Наукова періодика України Тематичний навігатор Авторитетний файл імен осіб
|
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000144421<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 1
|
Bystrenko T. To the problem of influence of charging processes on the grain screening in plasmas = До проблеми впливу процесів зарядки на екранування макрочастинок в плазмі / T. Bystrenko, A. Zagorodny // Укр. фіз. журн. - 2002. - 47, № 4. - С. 341-345. - Библиогр.: 16 назв. - англ.У межах лінеарізованої моделі беззіштовхувальної плазми досліджено вплив процесів зарядки на ефективне екрановане поле навколо зарядженої макрочастинки. Показано, що в широкому діапазоні параметрів плазми процеси зарядки суттєво не змінюють величину ефективного екранованого поля, передбачену рівноважною лінійною теорією екранування. Істотні відхилення від лінійної теорії екранування можна очікувати у випадку великих розмірів мікрочастинок - порядку довжини Дебая. Розглянуто асимптотичну поведінку ефективних потенціалів. Індекс рубрикатора НБУВ: В333.263
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
|