Представлена феноменологическая модель импеданса плазмы (МИП) индукционного ВЧ разряда (ИВЧР) в цилиндрической геометрии с учетом воздействия скин-эффекта на распределение электрического поля в плазме. С использованием предложенной модели получены основные составляющие импеданса плазмы ИВЧР и приведено их сравнение с уже существующими моделями. Показано, что устоявшееся в научной литературе представление области проводимости индукционного разряда в виде проводящего кольца толщиной порядка скин-слоя приводит к двукратному занижению расчетного импеданса плазмы. Результаты работы можно использовать как для совершенствования существующих МИП, так и для дальнейшего развития представления о физике ИВЧР.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"