Книжкові видання та компакт-диски Журнали та продовжувані видання Автореферати дисертацій Реферативна база даних Наукова періодика України Тематичний навігатор Авторитетний файл імен осіб
|
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000164444<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 1
|
Иванов М. А. Исследование роста тонкого слоя фазы VSi2 / М. А. Иванов, В. И. Глущенко // Металлофизика и новейшие технологии. - 2006. - 28, спец. вып. - С. 103-111. - Библиогр.: 16 назв. - рус.С помощью метода вторично-ионной масс-спектроскопии при температурах 923 и 948 К послойно изучен рост фазы дисилицида ванадия VSi2 толщиной до 2 мкм, расположенной между исходными чистыми фазами V и Si. Показано наличие двух характерных стадий роста такого слоя. Представлено уточненное теоретическое описание закона роста слоя промежуточной фазы в пренебрежении растворимостью исходных компонентов друг в друге. Данный теоретический подход хорошо согласуется с экспериментальными данными. Из имеющихся экспериментальных данных найдены характерные показатели времени и длины, которые описывают разные стадии роста и определяют переходы между ними. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.226
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж14161 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
|