Приведены данные исследования высокодозной имплантации ионов тантала в монокристаллы меди. Облучаемые медные кристаллы имели 2 различные плоскости ориентации: (100) и (111). Максимальная концентрация атомов Ta 5 ат. % обнаружена в Cu (100). Концентрация Tа в плоскости Cu (111) после облучения составляла только 1 ат. %. Имплантация Ta сопровождалась поверхностной карбидизацией и оксидированием. Атомы углерода и кислорода осаждались из остаточной атмосферы камеры имплантера. Концентрация атомов углерода и кислорода на поверхности достигла 50 ат. %. Микротвердость облученных образцов примерно на 30 процентов выше, чем необлученных образцов. Также обнаружено увеличение коррозионной стойкости для имплицированных кристаллов.

• Бондаренко Валерій Володимирович (1964–) (медичні науки)
• Бондаренко Валентина Володимирівна (педагогічні науки)
• Бондаренко В'ячеслав Володимирович (1977–) (технічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"