Изучено изменение структуры аморфных тонких пленок TiB2 толщиной порядка 40 нм при нагреве в колонне электронографа. Аморфные пленки получены магнетронным распылением в среде аргона мишени диборида титана, изготовленной методом порошковой металлургии. Установлена закономерность появления кристаллических боридов от низших к высшим при увеличении температуры нагрева аморфной пленки. Обнаружена корреляция между температурой кристаллизации фазы и энергией связи пар атомов Ti - B.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"