Хороших В. М. Параметры плазмы вакуумной дуги и особенности процесса получения TiN покрытий на изделиях малых размеров / В. М. Хороших, С. А. Леонов, В. А. Белоус, Г. И. Носов, Г. Н. Куриленко // Вісн. Харк. нац. ун-ту. Сер. фіз. "Ядра, частинки, поля". - 2007. - N 784, вип. 4. - С. 108-112. - Библиогр.: 5 назв. - рус.Проведены зондовые измерения параметров плазмы вакуумной дуги с титановым катодом при наличии азота в объеме вакуумной камеры. Изучены особенности получения покрытий на образцах малых размеров (порядка протяженности слоя объемного заряда ионов на границе плазма - поверхность конденсации). Исследования показали, что с ростом давления газа в разрядном промежутке происходит увеличение концентрации плазмы, обусловленное снижением энергии ионов металла при столкновениях с частицами газа. Столкновения ионов металла с молекулами газа приводят к хаотизации плазмы. Снижение энергии ионов и хаотизация плазменного потока обусловливают высокие скорости осаждения покрытий на основе нитрида титана в области давлений азота ~ 1,5:2 Па на образцах малого размера. В области давлений азота ~ 1,5:2 Па при обработке изделий следует учитывать их взаимное влияние друг на друга. Індекс рубрикатора НБУВ: К663.234.6
Шифр НБУВ: Ж29137 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|