Досліджено спектри фотолюмінесценції (ФЛ) плівок SiOx, імплантованих алюмінієм і титаном (в інтервалі доз від <$E 2,5~cdot~10 sup 15> до <$E 2~cdot~10 sup 16~roman см sup -2>). Показано, що після термічного відпалу спостерігаються дві смуги ФЛ з максимумами близько 550 і 850 нм. Імплантація алюмінію призводить до збільшення інтенсивності ФЛ за рахунок стимулювання зародження кремнієвих нанокластерів. Імплантація іонів титану призводить до зменшення інтенсивності ФЛ в усьому досліджуваному спектральному діапазоні. На підставі одержаних експериментальних результатів і даних літератури встановлено механізм впливу імплантації іонів Al і Ti на люмінесцентні властивості плівок SiOx.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"