Исследовано распределение интенсивности свечения разрядной плазмы по радиусу трубки и измерены ленгмюровским зондом радиальные профили температуры электронов и плотности плазмы в ВЧ разряде. Экспериментально обнаружено резкое увеличение температуры электронов и интенсивности свечения вблизи стенки трубки в слаботочной <$E alpha>-моде ВЧ разряда, при этом радиальное распределение плотности плазмы максимально вблизи границы радиального слоя. В <$E gamma>-моде ВЧ разряда понижение температуры электронов во всем плазменном объеме приводит к ослаблению амбиполярного электрического поля и исчезновению пика интенсивности свечения вблизи стенки трубки.

• Харченко Надія Дмитрівна (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"