РЕФЕРАТИВНА БАЗА ДАНИХ "УКРАЇНІКА НАУКОВА"
Abstract database «Ukrainica Scientific»


Бази даних


Реферативна база даних - результати пошуку


Вид пошуку
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000268769<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 1

Іващук А. В. 
Формування омічних контактів до напівпровідників <$Eroman bold {A sub 3 B sub 5 }> для НВЧ польових транзисторів із наднизьким рівнем шуму : Автореф. дис... канд. техн. наук: 05.27.01 / А. В. Іващук; Нац. техн. ун-т України "Київ. політехн. ін-т". - К., 2003. - 24 c. - укp.

Досліджено взаємозв'язки перерозподілу елементів контактних структур GaAs - M, AlGaAs/GaAs - M, InP/InGaAs - M, інтердиффузії та утворення фаз на межі поділу метал - напівпровідник з електрофізичними властивостями омічних контактів (ОК) за умов технологічних обмежень їх формування для польових надвисокочастотних (НВЧ) транзисторів з наднизьким рівнем шуму. Розроблено та досліджено комплексну технологію формування омічних контактів до <$En- roman {A sub 3 B sub 5 }> з багатокомпозиційних сполук, які містять тугоплавкі метали Ti, Ta, Mo, зривною літографією з добрим відтворенням топологій, а також технологію формування омічних контактів до n-GaAs з очищенням його поверхні низькоенергетичними іонами та збагаченням її атомами германію та нікелю в єдиному технологічному циклі, що дає змогу суттєво знизити питомий контактний опір до <$Erho sub roman c> ~ <$E3~ cdot ~10 sup -7 roman {Ом~ cdot ~см sup 2 }> та покращати морфологію контакту. Показано, що морфологія омічних контактів суттєво впливає на шуми гарячих електронів у транзисторних структурах, які визначають шумові параметри НВЧ транзисторів з субмікронними розмірами топології. Досліджено експлуатаційні характеристики ОК до n-GaAs на протязі 25000 год. Показано, що на надійність омічних контактів, як і на величину питомого контактного опору, суттєвий вплив має стан поверхні GaAs перед нанесенням композиції металів та технологія формування вакууму. Наведено результати дослідження радіаційної стійкості ОК у разі <$Egamma>-опромінення, оцінено її межу для ОК в польових транзисторах з бар'єром Шотткі (ПТШ) на GaAs. Розроблено


Індекс рубрикатора НБУВ: З852.395-01

Рубрики:

Шифр НБУВ: РА324529 Пошук видання у каталогах НБУВ 
Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)
  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
 
Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського
Відділ наукового формування національних реферативних ресурсів
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського