РЕФЕРАТИВНА БАЗА ДАНИХ "УКРАЇНІКА НАУКОВА"
Abstract database «Ukrainica Scientific»
НОВІНАДХОДЖЕННЯ |
ПОШУК
|
РУБРИКАТОР
|
Бази даних
Реферативна база даних - результати пошуку
Книжкові видання та компакт-дискиЖурнали та продовжувані виданняАвтореферати дисертаційРеферативна база данихНаукова періодика УкраїниТематичний навігаторАвторитетний файл імен осіб|
|
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000331462<.>) | |||
|
Загальна кількість знайдених документів : 1 |
|||
Гоц Н. Контроль температури в установках реактивного іонно-плазмового напилення з використанням термометра випромінення / Н. Гоц, Ю. Кривенчук // Вимірюв. техніка та метрологія. - 2011. - Вип. 72. - С. 45-49. - Бібліогр.: 8 назв. - укp. Процес виготовлення елементів мікроелектроніки на основі процесу іонно-плазмового напилення потребує неперервного контролю температури кремнієвої підкладки. Запропоновано використовувати для цього термометр випромінення. Розглянуто особливості вимірювання температури підкладки термометром випромінення у процесі іонно-плазмового напилення. Індекс рубрикатора НБУВ: К663.033.057.2-7 с Рубрики: Шифр НБУВ: Ж70321 Пошук видання у каталогах НБУВ  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця" | |||
| Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського |
 |
| Відділ наукового формування національних реферативних ресурсів |
 |
| Інститут проблем реєстрації інформації НАН України |
Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського