Рассмотрено масс-спектрометрическое исследование процессов ионного распыления в широком интервале энергий первичных ионов. С этой целью разработана конструкция масс-спектрометра вторичных нейтралей, которая в отличие от традиционных установок данного типа построена на базе ионного имплантера, генерирующего пучки ионов с энергией до 170 кэВ и плотностью тока на мишени до 1 мА/см<^>2. Проведено компьютерное моделирование траекторий электронов и положительных ионов в системе регистрации распыленных частиц и определены оптимальные параметры системы для трех режимов работы установки. Проведены исследования эмиссии распыленных нейтральных кластеров меди, а также процессов преимущественного распыления изотопов молибдена при различных параметрах пучка первичных ионов аргона.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"