Сысоев Ю. А. Подавление микродуг в ионно-плазменных процессах / Ю. А. Сысоев, Г. И. Костюк, А. В. Белявский, А. Ю. Сысоев, Р. В. Воропай, А. А. Бреус // Вопр. проектирования и пр-ва конструкций летат. аппаратов. - 2010. - Вып. 3. - С. 304-310. - Библиогр.: 7 назв. - рус.Выявлены две основные задачи, решение которых необходимо для эффективного подавления микродуг в ионно-плазменных процессах. С помощью разработанной методики обработки ЭОП-грамм импульсного разряда в пусковом плазменном инжекторе определены скорости перемещения катодных пятен 1-го типа, которые для данных условий эксперимента лежат в интервале <$E 110~symbol Ш~190> м/с. Оценено влияние энергии, запасаемой в питающей линии, на время существования дугового разряда после отключения блока питания ионной очистки. Предложен способ устранения этого влияния путем введения дополнительного коммутирующего элемента. С использованием данного метода выполнена модернизация высоковольтного блока на базе современных коммутирующих элементов, что позволило повысить качество обработки изделий. Індекс рубрикатора НБУВ: В333.31 + Ж624
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж69605 Пошук видання у каталогах НБУВ Повний текст Наукова періодика України Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|