С помощью рентгеновской дифракции проанализирована структура аморфных пленок CNx + TiN на подложке кремния, полученных методом ионно-стимулированной конденсации, с учетом напряжения смещения <$EU~=~200~symbol Ш~500> В. Обнаружено, что в процессе повышения напряжения смещения в структуре пленок CNx + TiN происходит концентрационный фазовый переход от преимущественного развития графитовой фазы к графитовой и кремниевой фазам. Показано, что при критическом напряжении смещения 350 В в структуре пленок CNx + TiN имеет место кристаллографический фазовый переход типа порядок - беспорядок.

• Самойленко Зiнаїда Андріївна (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"