Kladko V. P. X-ray diffraction study of deformation state in InGaN/GaN multilayered structures / V. P. Kladko, A. V. Kuchuk, N. V. Safryuk, V. F. Machulin, A. E. Belyaev, R. V. Konakova, B. S. Yavich // Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics. - 2010. - 13, № 1. - С. 1-7. - Бібліогр.: 21 назв. - англ.High resolution X-ray diffractometry (HRXRD) was used to investigate InxGa1-xN/GaN multilayered structures grown by the metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) method. Deformation conditions in the superlattice (SL) and its separate layers, degree of relaxation in the structure layers, as well as the period of the SL, thicknesses of its layers and composition of InxGa1-x solid solution in active area were determined. It was found that SL was grown on the relaxed buffer layer. SL layers were grown practically coherent with slight relaxation of InGaN layer (about 1,5 %). The role of dislocations in relaxation processes was established. Analysis of experimental diffraction spectra in these multilayered structures within the frameworks of Parrat-Speriozu was adapted for hexagonal syngony structures. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.226 + В372.134
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж16425 Пошук видання у каталогах НБУВ
Повний текст Наукова періодика України Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|