Jahromi S. S. Investigating the effects of smoothness of interfaces on stability of probing nano-scale thin films by neutron reflectometry / S. S. Jahromi, S. F. Masoudi // Condensed Matter Physics. - 2012. - 15, № 1. - С. 13604. - Бібліогр.: 12 назв. - англ.Зазначено, що більшість методів рефлектометрії, що використовують для визначення фази комплексного коефіцієнта відбивання, такі як еталонний метод і зміна прилеглого середовища, базуються на розв'язку рівняння Шредінгера з використанням розривного та сходинкоподібного оптичного потенціалу розсіювання. Проте, під час процесу напорошування для підготовки реального зразка два сусідні шари змішуються та міжфазова межа може не бути розривною і чіткою. Розмивання сусідніх шарів при міжфазовій межі (гладкість інтерфейсу) може мати вплив на відбивання, фазу коефіцієнта відбивання та перебудову густини довжини розсіювання зразка. Досліджено стійкість еталонного методу за присутності гладких міжфазових меж. Гладкість міжфазових меж розглянуто, використовуючи неперервну функцію потенціалу розсіювання. Запропоновано метод для одержання найбільш надійного результату, який відновлює густину довжини розсіювання зразка. Індекс рубрикатора НБУВ: В372.6 + В386.254
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж41279 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|