РЕФЕРАТИВНА БАЗА ДАНИХ "УКРАЇНІКА НАУКОВА"
Abstract database «Ukrainica Scientific»


Бази даних


Реферативна база даних - результати пошуку


Вид пошуку
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000519883<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 1

Gavrylyuk O. O. 
Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing / O. O. Gavrylyuk, O. Yu. Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, L. L. Fedorenko // Укр. фіз. журн.. - 2014. - 59, № 7. - С. 712-718. - Бібліогр.: 18 назв. - англ.

Проведено теоретичне дослідження розповсюдження температурних профілів в нестехіометричних плівках SiOx під час лазерного відпалу одиничним імпульсом. Розраховано розподіл температури на поверхні плівок SiOx, опромінених лазерним променем з різною інтенсивністю. Знайдено розподіл температури на різній глибині плівок SiOx, опромінених лазерним променем з інтенсивністю 52 МВт/см<^>2. Показано, що під час лазерного відпалу з інтенсивністю 52 МВт/см<^>2 температура на поверхні плівок SiOx може досягати 1800 К.


Індекс рубрикатора НБУВ: В379.226 + В379.25

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ 
Повний текст  Наукова періодика України 
Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)
  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
 
Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського
Відділ наукового формування національних реферативних ресурсів
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського