![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Книжкові видання та компакт-диски ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Журнали та продовжувані видання ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Автореферати дисертацій ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Реферативна база даних ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Наукова періодика України ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Тематичний навігатор ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Авторитетний файл імен осіб
|
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000519883<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 1
|
Gavrylyuk O. O. Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing / O. O. Gavrylyuk, O. Yu. Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, L. L. Fedorenko // Укр. фіз. журн.. - 2014. - 59, № 7. - С. 712-718. - Бібліогр.: 18 назв. - англ.Проведено теоретичне дослідження розповсюдження температурних профілів в нестехіометричних плівках SiOx під час лазерного відпалу одиничним імпульсом. Розраховано розподіл температури на поверхні плівок SiOx, опромінених лазерним променем з різною інтенсивністю. Знайдено розподіл температури на різній глибині плівок SiOx, опромінених лазерним променем з інтенсивністю 52 МВт/см<^>2. Показано, що під час лазерного відпалу з інтенсивністю 52 МВт/см<^>2 температура на поверхні плівок SiOx може досягати 1800 К. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.226 + В379.25
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ
Повний текст Наукова періодика України Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
|