[Fe(tFe) nm/Cu (tCu) nm]N multilayer films were prepared using pulsed-current electrodeposition method. The role of the pulsed-current deposition and Fe and Cu layer thicknesses on the magnetic properties was investigated. The microstructure of the multilayer films is dependent on the thicknesses of both the Fe and Cu layers. The saturation magnetization of the multilayers strongly correlated with the crystalline structure of Fe at the interface of Fe and Cu layers.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"