 Книжкові видання та компакт-диски  Журнали та продовжувані видання  Автореферати дисертацій  Реферативна база даних  Наукова періодика України  Тематичний навігатор  Авторитетний файл імен осіб
|
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000647738<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 1
|
Havryliuk O. O. Theoretical evaluation of the temperature field distribution in the silicon periodic nanostructures during thermal annealing = Теоретичні розрахунки поширення температурного поля в кремнієвих періодичних структурах під час термічного відпалу / O. O. Havryliuk, O. Yu. Semchuk // Хімія, фізика та технологія поверхні. - 2017. - 8, № 1. - С. 3-9. - Бібліогр.: 21 назв. - англ.Проведено математичне моделювання розподілу температури в кремнієвих періодичних структурах. Показано розподіл температурних профілів у різні проміжки часу. Встановлено час повного нагріву структури. Показано, що у процесі термічного відпалу швидше нагрівається проміжок між мікронитками. Індекс рубрикатора НБУВ: Г124.2-25
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж100480 Пошук видання у каталогах НБУВ
Повний текст Наукова періодика України Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
|