Bagmut A. G. Kinetics of crystals growth under electron-beam crystallization of amorphous films of hafnium dioxide = Кінетика росту кристалів під час електронно-променевої кристалізації аморфних плівок діоксиду гафнію / A. G. Bagmut, I. A. Bagmut // Functional Materials. - 2018. - 25, № 3. - С. 525-533. - Бібліогр.: 20 назв. - англ.Аморфні плівки HfO2 одержано лазерною абляцією мішені Hf в атмосфері кисню. Їх кристалізацію здійснювали впливом електронного променя у колоні електронного мікроскопа. Формування і зростання кристалів HfO2 досліджено "на місці". Кінетичні криві перетворення побудовано на основі покадрового аналізу відеофільму процесу кристалізації плівки. За структурно-морфологічними ознаками фазове перетворення відповідає дендритній поліморфній кристалізації і може носити як одностадійний, так і двостадійний характер. В останньому випадку має місце розмірно-фазовий ефект, який полягає у тому, що коли розмір кристала орторомбічної модифікації HfO2 перевищує критичну величину (~ 0,2 мкм), то він розщеплюється на домени, які мають як орторомбічну, так і моноклінну кришталеву гратку. Визначено кінетичні параметри кристалізації і показано, що має місце квадратична залежність частки кристалічної фази від часу. Середнє значення відносної довжини за дендритної поліморфної кристалізації складає ~ 3075. Фазове перетворення з аморфного стану у кристалічний стан супроводжується збільшенням відносної щільності речовини плівки на ~ 2,5 %. Після повної кристалізації плівка складається переважно з дендритів моноклінної модифікації HfO2. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.226 + В379.251.4
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж41115 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|