РЕФЕРАТИВНА БАЗА ДАНИХ "УКРАЇНІКА НАУКОВА"
Abstract database «Ukrainica Scientific»


Бази даних


Реферативна база даних - результати пошуку


Вид пошуку
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000716564<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 1

Mekheldi M. 
Simulation of guard ring type effects on the electrical characteristics of n-on-p planar silicon detectors = Моделювання впливу типу захисного кільця на електричні характеристики планарних кремнієвих детекторів типу n-on-p / M. Mekheldi, S. Oussalah, A. Lounis, N. Brihi // J. of Nano- and Electronic Physics. - 2019. - 11, № 4. - С. 04008-1-04008-6. - Бібліогр.: 21 назв. - англ.

Оновлення високоенергетичних фізичних експериментів на великому адронному коллайдері (LHC) у ЦЕРНі вимагатиме застосування нових випромінювальних технологій у наступних поколіннях пристроїв стеження, які будуть необхідні для витримування надзвичайно високих доз опромінення. Пленарні ніксельні датчики n-on-p є перспективними кандидатами і мають бути реалізовані у майбутньому піксельному детекторі ATLAS. Наведено порівняльне дослідження двох різних конструкцій багатозахисних структур до і після опромінення. Обидві структури засновані на технології підкладки p-типу з та без стопорної ізоляції між імилантами. Більш того, одна структура має захисні кільця p-типу, в той час як інша - n-типу. Для вивчення електричних характеристик конструкцій змінювалися різні технологічні параметри, такі як товщина і легування кремнієвої підкладки, глибина і легування захисних кілець, та товщина діоксиду кремнію. Ефективність багатозахисних кільцевих структур оцінюється за допомогою моделювання TCAD до флюенсу випромінювання <$E1~times~10 sup +16 ~n sub cq>/см<^>2 з використанням існуючої моделі об'ємного радіаційного пошкодження p-типу на основі так званої "Perugia tri level traps model", де опромінення генерує два акцепторных рівня, розташованих трохи вище середньої забороненої зони, і один донорний рівень, розташований трохи нижче середини забороненої зони. Розглянуто збільшення кількості оксидного заряду з ростом дози опромінення. Для високоякісного шару SiO2 початкова щільність заряду на інтерфейсному шарі встановлювалася рівною <$E5~times~10 sup +10> cm<^>-2 для неопроміненого детектора, тоді як дія сильно опроміненої структури значення щільності заряду може сягати <$E1~times~10 sup +12> cm<^>-2. Вони моделювалися на високоомних кремнієвих пластинах з використанням програмного забезпечення Silvaco Virtual Wafer Fab (VWF).


Індекс рубрикатора НБУВ: В381.592

Рубрики:

Шифр НБУВ: Ж100357 Пошук видання у каталогах НБУВ 
Повний текст  Наукова періодика України 
  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
 
Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського
Відділ наукового формування національних реферативних ресурсів
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського