Nevludov I. Sh. Crystallization processes of oxide films on the metal/oxide surface = Процеси кристалізації окисних плівок на поверхні метал/оксид / I. Sh. Nevludov, V. N. Gurin, D. V. Gurin, Yu. N. Oleksandrov // Functional Materials. - 2020. - 27, № 2. - С. 334-336. - Бібліогр.: 10 назв. - англ.Наведено результати досліджень термічної кристалізації оксидних діелектриків Nb2O5 і Ta2O5. Встановлено, що розчинення кисню у ніобії і танталі сприяє пригніченню процесу деградації, пов'язаного з відновленням аморфного оксиду базовим металом. Показано, що у результаті окисно-відновних реакцій на міжфазних межах шаруватої структури кисень з оксиду дифундує у метал, окислюючи останній. Сам оксид у цьому випадку відновлюється, що призводить до локальних порушень хімічного складу оксиду. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.251.4
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж41115 Пошук видання у каталогах НБУВ
 Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|